不同的氧化鋯珠對(duì)粉碎xiao果有很大的差別，在實(shí)際生產(chǎn)中，應(yīng)選用合適的研磨介質(zhì)球，并嚴(yán)格控制研磨介質(zhì)的成球工藝，優(yōu)化生產(chǎn)工藝提研磨效率，盡可能的減少其研磨損耗，保產(chǎn)質(zhì)量量的穩(wěn)定性。

粉體在高陶瓷材料中應(yīng)用，但是粉體的團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，影響了其應(yīng)用xiao果。為了解決粉體團(tuán)聚問(wèn)題，工業(yè)上通常采用機(jī)械方式解聚，常用的研磨設(shè)備主要有臥式砂磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和球磨機(jī)等。臥式砂磨機(jī)對(duì)物料適應(yīng)性廣，是為、效率高的研磨設(shè)備之一，配合好的冷卻系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)研磨、連續(xù)出料，負(fù)大地提了生產(chǎn)效率。

為了研究不同研磨設(shè)備及研磨工藝參數(shù)對(duì)粉體團(tuán)聚體的解聚xiao果，以d50＝1.355μm的氧化鋯為研究對(duì)象，先分別采用立式球磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和臥式砂磨機(jī)在相同研磨條件下進(jìn)行研磨試驗(yàn)，以確定佳研磨設(shè)備；然后采用優(yōu)研磨設(shè)備，選擇介質(zhì)物料比、料漿固含量、線速度和研磨時(shí)間作為試驗(yàn)因素，進(jìn)行四因素三水平正交試驗(yàn)，以確定佳研磨工藝參數(shù)。

氧化鋯珠在電子元器件原料研磨中的應(yīng)用

ZnO壓敏電阻的性能主要取決于它的材料組成和微觀結(jié)構(gòu)，而其微觀結(jié)構(gòu)在很大程度上由粉體的特性決定。ZnO壓敏電阻中原料粒徑尺寸越小，越有利于其混合的均勻性，成分均勻是壓敏電阻燒結(jié)過(guò)程中各成分之間反應(yīng)均一的基礎(chǔ)。現(xiàn)有ZnO壓敏電阻生產(chǎn)所用原料中，主原料ZnO為細(xì)粉體，而添加劑氧化物的粒徑相對(duì)較粗且各自粒徑差異較大，不利于制備過(guò)程中各原料均勻分布。

上海的研究人員用臥式砂磨機(jī)對(duì)混合添加劑氧化物進(jìn)行微納化，探究添加劑粒徑對(duì)ZnO壓敏電阻性能的影響。借助粘度、Zeta電位、SEM、XRD和電測(cè)設(shè)備等分析方法對(duì)所制得的ZnO壓敏電阻進(jìn)行綜合分析。

結(jié)果表明，通過(guò)臥式砂磨機(jī)細(xì)化的添加劑粒徑達(dá)微，制得的壓敏電阻ZnO晶粒尺寸減小，微觀結(jié)構(gòu)均勻。相比于其他機(jī)械研磨設(shè)備，臥式砂磨機(jī)不只效率高，且細(xì)化物料的粒徑分布范圍窄，可達(dá)微。添加劑經(jīng)過(guò)臥式砂磨機(jī)細(xì)化后，粒徑減小，與ZnO混合均勻，在燒結(jié)成瓷過(guò)程中形成了多的尖晶石相，抑了ZnO晶粒的生長(zhǎng)，增加了單位厚度晶界層的數(shù)量，改進(jìn)了微觀結(jié)構(gòu)的均勻性，提了壓敏電阻的綜合電學(xué)性能。