KRi 中和器 Neutralizer Sources
上海伯東美國 KRi 提供幾種類型的低能量高電流電子源. 電子源技術包含浸入式熱離子燈絲和非浸入式空心陰極發射器. 型號包含燈絲, LFN2000, LHC1000, MHC1000, SHC1000.

通常, 這些電子源可以作為陰極和/或中和器與等離子體或離子源結合使用. 它們在惰性和反應性氣體環境中的操作是標準的. 電子源的發射電流是用電流反饋回路測量和控制. 由于這種精確可靠的電子源, KRi 電子源成功地用于靜電敏感應用和介電材料環境.

KRi 電子源安裝在材料處理環境中, 作為中和器集成到離子束源上, 或者可以集成到等離子體放電的電離過程中. 在其他更專業的應用中, 可以與磁控管陰極一起安裝以調整濺射操作.

KRi 中和器 Neutralizer Sources 功能
離子束中和: 射頻離子源, 考夫曼離子源, 霍爾離子源和陽極層源
等離子體產生中的電離: 射頻離子源, 考夫曼離子源, 霍爾離子源
在正偏置分析儀器中, 電中和
磁控濺射中增強的電子通量
 

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.