離子源中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結(jié)構(gòu)緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統(tǒng)的側(cè)面, 相對于燈絲的模式有更長的使用壽命, 這在運行忌諱突然中斷的復(fù)雜工藝時, 是非常有意義的. 而且離子源中空陰極 Hollow cathode 輻射的熱量更低, 可以使襯底獲得更低的溫度,對于對溫度敏感的襯底材料而言, 使用中空陰極更有優(yōu)勢.
離子源中空陰極 Hollow Cathodes 型號
Model | HFx | SHC1000 | DSHC1000 |
Cathode | Yes | Yes | Yes |
Neutralizer | Yes | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Regulation | Emission | Emission | Emission |
Operational gas | None | Inert | Inert |
Process gases | Inert & reactive | Inert & reactive | Inert & reactive |
Power Controller | FC100x | e- Mission Power Pack | e- Mission Power Pack |
Model | MHC1000 | LHC1000 |
Cathode | Yes | Yes |
Neutralizer | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Regulation | Emission | Emission |
Operational gas | Inert | Inert |
Process gases | Inert & reactive | Inert & reactive |
Power Controller | e- Mission Power Pack | e- Mission Power Pack |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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