KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

KRI Ion Source 應用領域：
無柵極等離子源技術
----End-Hall 離子/等離子源
有柵極離子源技術
----RFICP 離子源
----DC 離子源
電子源技術
----燈絲
----中空陰極 (Hollow cathode)
----等離子中和器
單機應用
----直流電源 (DC power)
----射頻電源 (RF power)

有多個模組組成，模組的特性取決于功率、頻率、電壓、電流和控制方式，大多數模組都滿足 CE 和 CoHS 標準。

監控：監視器
穩定輸出：設置優化
狀態診斷：用戶直接獲取
參數存儲：準確保存

連續性和穩定性
功率控制器能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體、短路、電流過沖、電壓過沖和功率過沖的情況，實現保護功能。確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作。通過數顯的面板，可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊。

KRI Individual Power Supply Controller 獨立的功率控制器
功率控制器可以單獨使用也可以集成到其它功率包中，能提供直流、交流和射頻功率。
AC Power 交流電源

交流電源輸出一個低頻的直流信號，適用于低阻抗負載，比如驅動類似于燈絲這樣的發熱原件，通過大的功率加熱燈絲到發射熱電子的溫度。
交流電源比直流電源更有利于燈絲壽命的延長
軟起功能有助于平穩的提高燈絲溫度從冷起到電子發射的溫度

型號：
FC 1000
FC 1006
DC Power 直流電源

直流電源通常應有在等離子體輝光放電、偏壓和離子加速。可提供幾千瓦的輸出功率，電壓范圍 80~1000 V。典型應用是用于離子、等離子和電子源的電極和襯底偏壓。
對陽極施以電壓點燃和維持等離子放電
對等離子施以偏壓去定量離子能量
對離子光柵施以偏壓去撲捉和加速離子
對陰極施以電壓獲得電子流
輸出的電壓、電流和調節模式可選，可更具需要選擇輸出值像等離子電位、離子能量、電子流和離子軌道等參數。

RF Power 射頻電源
射頻電源產生一個射頻信號，適用于低阻抗的電磁負載，典型應用是驅動射頻天線將能量輻射進等離子腔室。通過感應耦合的方式射頻功率產生和維持一個高密度的等離子。通過自動阻抗匹配使功率大的傳輸優化，此外設計上使電容耦合和功率衰減更小化。

型號：
RF 1000
RF 1500
氣體控制器：
KRI 氣體控制器提供功率和控制多路品質流量計，能夠使用于不同的氣體和氣體混合物，而且可以和幾乎所有的不同制造商的模組相容，數字顯示模式。使用者可以自行設置流量并有存儲功能。

型號： GC 1000
自動系統控制器：
是一個可程式設計的單元，能集成到電源模組中去提供適合的功率控制。該控制器采用的通信協定與功率模組進行快捷的通信，實現控制功能。
它能夠自動選擇更優的模式去校準等離子負載，達到更穩定的狀態，同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序，同時控制多個 MFC。

自動系統控制器：
是一個可程式設計的單元，能集成到電源模組中去提供適合的功率控制。該控制器采用的通信協定與功率模組進行快捷的通信，實現控制功能。
它能夠自動選擇更優的模式去校準等離子負載，達到更穩定的狀態，同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序，同時控制多個MFC。

KRI Integrated Power Pack Controller 電源模組集成包
電源模組集成包有獨立的電源模組衍生而來，因為 KRI 的獨立電源模組是一種標準的模組，所以這些模組能夠容易的集成到自動、多功能的功率包中。集成包是一個強有力的工具，能夠簡化等離子、離子和電子源的操作, 可以方便的實現功率控制的更優化.

當經常應用在如下的場合：
1. 工藝工程師想實現寬范圍的工藝設計和優化，渴望確保參數的重復性，工藝可控
2. 生產經理想實現一個簡單的命令操作，使工藝參數快速穩定
3. OEM 想實現高的集成度從而降低成本
4. 從事薄膜表面和納米結構的科研工作者想實現靈活、準確的工藝控制

eH Plasma Power Pack Controller---eH 等離子功率集成包
eH 等離子功率集成包用于驅動 end-Hall 離子源，它由電子發射模組、等離子放電模組和自動系統控制模組組成，結構緊湊、重量輕便。適用于材料工藝中要求高效、穩定和準確的電子或離子源的功率控制。

它能給 end-Hall 等離子源的陽極或陰極提供功率，使用者可根據需要設置陽極的離子密度和離子能量，同樣的使用者也可以界定陰極的電子流參數。eH Plasma Power Pack 能夠跟蹤離子流，自動發射電子確保電中性。

eH Plasma Power Pack 有自我保護功能，同時它是一個快速反應的功率源，可以在幾秒鐘內點火產生等離子，并在幾秒鐘內使離子束達到穩定。可以存儲多個工藝程序、控制多個MFC確保對多種氣體和氣體混合物的準確控制。
使用者能容易的設置各種參數和模式、狀態，面版上會顯示出設定值、運行值、功能表存儲資訊和工作狀態資訊。

KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射頻感應耦合等離子功率集成包
RFICP Ion Power Pack Controller 用于驅動有柵極離子源，由中和器模組、放電模組、偏壓模組和加速模組組成，這些模組集成在一個 19” 的集成包中。

RFICP Ion Power Pack Controller 給離子源的射頻線圈、離子光學和中和器提供電源，將射頻功率耦合到輝光放電腔室，產生高密度的等離子體。配有自動阻抗適配器實現更優化，用戶可以選擇離子能量和離子密度來滿足工藝的要求。廣泛用于沉積和刻蝕工藝中。
射頻的額定功率 0.5 KW 或更高，中和器的額定功率 0.5 A 或更高。